Iniciativa busca aumentar las penas asignadas al delito de falsificación y uso de pasaporte falso y aplicar a la cédula nacional de identidad la misma regulación.

La moción de los diputados Alessandri, Coloma, Hernández, Lavín, Morales, Moreira, Noman, Sanhueza, Urrutia y Van Rysselberghe, busca aumentar las penas privativas de libertad, y establecer una privación de libertad en la hipótesis del artículo 201 del Código Penal, atendido especialmente al aumento de este delito y la gravedad que reviste el mismo, dado que puede ser la antesala de hechos punibles aún más graves.

Al respecto, el proyecto manifiesta que las penas privativas de libertad asociadas a la comisión de este tipo de ilícitos son más bien bajas, las que oscilan entre 61 días a 3 años, para las hipótesis de los artículos 199 y 200. El artículo 201 que refiere al uso de pasaporte falso y mal uso del verdadero, no contempla si quiera pena privativa de libertad, donde sólo se impone una multa de hasta 10 unidades tributarias mensuales (alrededor de $500.000 pesos chilenos).

Se agrega que, por otro lado, nuestro Código Penal no establece un tipo penal específico para la falsificación de Cédula Nacional de Identidad, pudiendo encuadrarse dicha hipótesis dentro del tipo penal de falsificación de documento público. No obstante lo anterior el presente proyecto de ley busca establecer dicha hipótesis dentro del tipo penal de falsificación de pasaporte, por cuanto los motivos y formas de comisión del ilícito obedece a medios y fines bastante similares.